在新能源飞速发展以及产品智能化的大背景下，如今我国高科技产业进入了蓬勃发展的阶段。所有高科技产品最不容缺失的核心部件便是芯片了，而想要生产和制造芯片，光刻机这一机械设备又显得尤为重要。那么我国能够生产几纳米的光刻机呢？目前国产光刻机发展如何？不妨一起来看看吧！
近几年，我国华为企业在芯片这一方面一直受到来自美国的制约，也因此有许多芯片代工厂无法为我国华为公司提供正常的芯片代工服务。事实上，不仅是华为公司，我国其它高科技企业也面临着缺芯的情况。如果想要改善这一难题，那么一定要实现国产光刻机自主化。
其实我国在28纳米光刻机制程上已经有了突破性的进展，毕竟28纳米芯片比90纳米芯片拥有更加优越的性能，用途也是十分广泛的，尤其是在新能源产业这一方面。要知道，如果能够自主研发出28纳米的光刻机，那么或许我国在新能源汽车以及智能家居这两个行业能够有所突破。根据资料显示，我国上海微电子公司在2021至2022年将会交付出第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机，这便表示我国已经能够实现28纳米芯片的自由了，在芯片行业这一方面也拥有了较为完整的知识产权和自主产业链。
28纳米芯片或许能够满足大部分的生产需求，但是对于华为这些手机厂商以及其它的国产芯片来说，28纳米的精度还是完全不够用的。毕竟手机对于芯片的精度要求是非常高的，还需要进一步进行光刻机的研发，我国下一阶段的目标便是对5纳米制程光刻机的难题进行攻克。虽然目前我国还没有研发出5纳米的光刻机，但是已经能够独立制造出5纳米制程的刻蚀机了。
总而言之，目前我国已经能够生产出28纳米的光刻机了，相信未来国产光刻机将会发展得越来越好。